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更新時(shí)間：2026-02-28 
瀏覽次數(shù)：56本文介紹了株式會(huì)社 INTECS 開發(fā)的 UIH-1H 型超高亮度照明裝置。該設(shè)備利用丁達(dá)爾現(xiàn)象，專為精密光學(xué)檢測(cè)設(shè)計(jì)。其核心定位在于 “結(jié)像重視" （成像清晰度），區(qū)別于單純的高亮度照明設(shè)備。UIH-1H 的主要功能是專攻半導(dǎo)體拋光晶圓（Polish Wafer）的 Haze（霧度）檢測(cè)，通過獨(dú)特的光學(xué)系統(tǒng)在晶圓表面投影出3條檢查標(biāo)記，使操作人員能直觀判斷表面微米級(jí)的霧狀缺陷。同時(shí)，該設(shè)備也適用于廣泛的 “半導(dǎo)體晶圓與掩膜玻璃專用" 場(chǎng)景，可用于檢查表面異物、傷痕及內(nèi)部氣泡。文章詳細(xì)列出了其 15V 150W 的光源規(guī)格，并強(qiáng)調(diào)了其特的有的3分鐘強(qiáng)制冷卻關(guān)機(jī)流程，以確保設(shè)備在高潔凈度工業(yè)環(huán)境下的穩(wěn)定性和 longevity。
與同系列的 UIH-1C 型號(hào)不同，UIH-1H 在設(shè)計(jì)上側(cè)重于成像清晰度（結(jié)像重視），而非單純的高亮度。
核心用途：該設(shè)備專為拋光晶圓（Polish Wafer）的 Haze（霧度/濁度）檢測(cè)而設(shè)計(jì)。
光學(xué)特性：UIH-1H 能夠在照射面上投影出 3 條特定的檢查標(biāo)記。這些標(biāo)記有助于操作人員清晰地觀察晶圓表面的霧狀缺陷（Haze）。
適用對(duì)象：主要針對(duì)半導(dǎo)體晶圓，同時(shí)也適用于掩膜玻璃（Mask Glass）、光學(xué)部件及鏡頭等精密部件的表面檢查。
結(jié)束使用流程：檢測(cè)結(jié)束后，先將燈泡開關(guān)撥回 STANDING BY 狀態(tài)。必須冷卻 3 分鐘以上，待內(nèi)部溫度下降后，再切斷電源。這是為了保護(hù)設(shè)備并確保下一次使用的穩(wěn)定性。
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